공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[268]
| 76714 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20170 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57164 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 68695 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 92273 |
23 |
Edge ring의 역할 및 원리 질문
[1] | 210 |
22 |
ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다
[1] | 783 |
21 |
정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다.
[1] | 700 |
20 |
ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요??
[1] | 2008 |
19 |
ESC Dechuck과 관련하여 궁금한점이 있어 문의를 드립니다.
[1] | 14782 |
18 |
ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의
| 1415 |
17 |
ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다.
[1] | 5520 |
16 |
Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다.
[2] | 2816 |
15 |
전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다.
[1] | 1597 |
14 |
dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요?
[1] | 3507 |
13 |
ESC Cooling gas 관련
[1] | 3531 |
12 |
Si Wafer Broken
[2] | 2511 |
11 |
ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할
| 4318 |
10 |
CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요
[1] | 1869 |
9 |
Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다.
| 8641 |
8 |
ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다.
| 16945 |
7 |
정전척 isolation 문의 입니다.
[1] | 7614 |
6 |
플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의..
[1] | 6469 |
5 |
[질문] 석영 parts로인한 특성 이상
[1] | 19835 |
4 |
안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
| 22940 |