공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[303]
| 78037 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20847 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57737 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 69253 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 93631 |
172 |
center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2
| 462 |
171 |
center to edge 문제를 극복하기 위한 방법
[1] | 940 |
170 |
RIE Gas 질문 하나 드려도될까요?
[1] | 370 |
169 |
RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요?
[1] | 337 |
168 |
remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다.
[1] | 766 |
167 |
GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문
[1] | 279 |
166 |
Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다.
[1] | 666 |
165 |
애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다.
[1] | 445 |
164 |
화장품 원료의 플라즈마 처리 문의
[1] | 215 |
163 |
Compressive한 Wafer에 대한 질문
[1] | 268 |
162 |
[재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스
[1] | 711 |
161 |
Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다.
[1] | 1706 |
160 |
메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘
[1] | 340 |
159 |
RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다.
[1] | 408 |
158 |
PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다.
[1] | 451 |
157 |
ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다.
[1] | 687 |
156 |
Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유
[1] | 1205 |
155 |
텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량
[1] | 405 |
154 |
기판표면 번개모양 불량발생
[1] | 665 |
153 |
OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다.
[1] | 29040 |