Etch Plasma 식각 test 관련 문의

2021.12.13 16:57

벅바 조회 수:4005

안녕하세요.

 

플라즈마 식각 중량변화 테스트를 O2가스와 NF3,AR(3:1) 비중으로 60분동안 200W전력 조건으로 

 

제품은 불소고무 O-RING 입니다.

 

할 수 있는곳이 있을까요?? 

 

도움 부탁드리겠습니다..

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [299] 77651
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20679
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57617
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69112
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93332
150 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 1063
149 RF Sputtering Target Issue [2] file 661
148 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 2014
147 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 603
146 Polymer Temp Etch [1] 746
145 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 532
144 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 626
143 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1163
142 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1120
141 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 947
140 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2098
139 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 4200
138 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 2241
137 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1206
» Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 4005
135 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 1229
134 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1494
133 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 763
132 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 2995
131 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 2068

Boards


XE Login