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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [RF 접지 및 체결, 결합부분 교체]
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플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [Plasma torch와 cyanide]
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[재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [플라즈마 식각기술]
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PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어]
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접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경]
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Plasma 표면 개질에 대해 질문드립니다. [O2 플라즈마와 Ar 플라즈마]
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ICP 후 변색 질문
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remote plasma를 이용한 SiO2 ethching 질문드립니다. [식각률 self limit과 쉬스 에너지 변화]
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O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다.
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기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다.
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안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [단위 Chamber의 PM 이력]
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Polymer Temp Etch [이온 입사 에너지]
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안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다. [플라즈마 확산 시간 및 표면 반응 시간 유지]
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RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해보고 싶습니다. [플라즈마 가속 전자의 충돌 반응]
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플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [세정 공정 개발]
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O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation]
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플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [CCP 방전 원리]
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center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [CCP 균일도, CCP edge]
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sticking coefficient 관련 질문입니다. [HAR, LF bias]
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Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 식각기술, Plasma Etching]
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