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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69679
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153 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [RF 접지 및 체결, 결합부분 교체] [1] 737
152 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [Plasma torch와 cyanide] [2] 748
151 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [플라즈마 식각기술] [1] 754
150 PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어] [1] 756
149 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 773
148 Plasma 표면 개질에 대해 질문드립니다. [O2 플라즈마와 Ar 플라즈마] [1] 784
147 ICP 후 변색 질문 787
146 remote plasma를 이용한 SiO2 ethching 질문드립니다. [식각률 self limit과 쉬스 에너지 변화] [1] 810
145 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 811
144 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 813
143 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [단위 Chamber의 PM 이력] [1] 827
142 Polymer Temp Etch [이온 입사 에너지] [1] 827
141 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다. [플라즈마 확산 시간 및 표면 반응 시간 유지] [2] 833
140 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해보고 싶습니다. [플라즈마 가속 전자의 충돌 반응] [1] 910
139 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [세정 공정 개발] [1] 989
138 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation] [1] 996
137 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [CCP 방전 원리] [1] file 1013
136 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [CCP 균일도, CCP edge] [1] 1020
135 sticking coefficient 관련 질문입니다. [HAR, LF bias] [1] 1144
134 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 식각기술, Plasma Etching] [3] 1170

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