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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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[Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련]
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플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다.
[1] | 2082 |
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플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다.
[1] | 936 |
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타겟 임피던스 값과 균일도 문제
[1] | 422 |
128 |
엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다.
[1] | 1203 |
127 |
O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의
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안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다
[2] | 800 |
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접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다
[1] | 739 |
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Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계.
[2] | 1181 |
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[RIE] reactive, non-reactive ion의 역할
[1] | 2651 |
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O2 Asher o-ring 문의드립니다.
[1] | 943 |
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Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate
[1] | 2404 |
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Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다.
[1] | 1448 |
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Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다.
[1] | 1134 |
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Plasma etch관련 질문이 드립니다.
[1] | 1282 |
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질문있습니다 교수님
[1] | 22399 |
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CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문
[1] | 1842 |
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안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다.
[1] | 7053 |
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ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다.
[2] | 3764 |
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Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다.
[1] | 3161 |