번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [303] 78037
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20846
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57737
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69253
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93631
72 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 6394
71 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 656
70 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1457
69 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 5586
68 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6177
67 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 4148
66 Ar plasma power/time [1] 1483
65 안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다. [1] 17788
64 N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] 11725
63 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 3111
62 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 4416
61 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3909
60 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 3236
59 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2985
58 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] 8103
57 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6531
56 고온 플라즈마 관련 8096
55 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6589
54 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7736
53 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] 10378
쓰기
태그

Boards

XE Login