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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70320
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 96114
53 Polymer Temp Etch [이온 입사 에너지] [1] 889
52 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다. [플라즈마 확산 시간 및 표면 반응 시간 유지] [2] 866
51 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 862
50 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [단위 Chamber의 PM 이력] [1] 855
49 Plasma 표면 개질에 대해 질문드립니다. [O2 플라즈마와 Ar 플라즈마] [1] 847
48 remote plasma를 이용한 SiO2 ethching 질문드립니다. [식각률 self limit과 쉬스 에너지 변화] [1] 843
47 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 823
46 PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어] [1] 805
45 ICP 후 변색 질문 799
44 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 799
43 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [플라즈마 식각기술] [1] 786
42 RF Sputtering Target Issue [Sputtering] [2] file 780
41 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [Plasma torch와 cyanide] [2] 779
40 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [RF 접지 및 체결, 결합부분 교체] [1] 776
39 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time [TVP(Thorottle Valve Position)] [1] file 740
38 기판표면 번개모양 불량발생 [Plasma charging] [1] 737
37 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [Sheath 전기장 및 instability] [1] file 724
36 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [Self bias와 RIE] [1] 706
35 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [핵융합 연구소] [1] 658
34 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 631
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