|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[309]
| 78473 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 21040 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57867 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 69399 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 93944 |
|
24 |
RPC ClEAN시 THD 발생 [RF shield와 ground의 강화]
[1] | 700 |
|
23 |
analog tuner관련해서 질문드립니다. [박막 플라즈마 및 tunning 원리]
[1] | 795 |
|
22 |
연면거리에 대해 궁금합니다. [아크 제어]
[1] | 921 |
|
21 |
고진공 만드는방법. [System material과 design]
[1] | 1058 |
|
20 |
반도체 관련 플라즈마 실험 [Plasma experiment]
[1] | 1509 |
|
19 |
Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [ESC coating와 dummy load]
[1] | 2381 |
|
18 |
플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다.. 도와주십시오 ㅠㅠ [플라즈마의 진공과 가스 주입]
[1] | 10102 |
|
17 |
반응기의 면적에 대한 질문 [전극의 면적에 따른 전압 강하]
| 12837 |
|
16 |
Electrode의 역할에 대해서 궁금합니다. [이차전자의 방출과 스퍼터링]
| 17406 |
|
15 |
Faraday shielding & Screening effect [Fluctuation과 grid bias]
| 18394 |
|
14 |
최적의 펌프는? [Turbo Pump와 corrosion free]
| 18571 |
|
13 |
MFC [Direct liquid injection]
| 19360 |
|
12 |
CCP/ICP에서 자석의 역할에 대하여 [ICP와 자기장의 역할]
| 19380 |
|
11 |
석영이 사용되는 이유 [플라즈마 내식성과 불순물 제어]
[1] | 20137 |
|
10 |
CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [플라즈마 확산 및 전력정합 영역 제어]
[1]  | 20459 |
|
9 |
전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [Coaxial cable과 wave shield]
[1] | 21184 |
|
8 |
Peak RF Voltage의 의미
| 22696 |
|
7 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
| 24749 |
|
6 |
RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [장비의 접지, 절연 관리]
[1] | 24826 |
|
5 |
스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요?
| 25628 |
