ATM Plasma 상압 플라즈마 방전에 관한 문의

2011.06.20 10:33

김동영 조회 수:20311 추천:10

안녕하세요

조금전 상압 플라즈마 방전과 관련한 내용을 전화로 문의드렸던 사람입니다.

서면으로 정리하여 문의드리는 쪽이 편하다고 하시어 이렇게 글을 남기게 되었습니다.


우선 저희가 연구중인 제품은 저온 상압 플라즈마 방전을 이용한 이온발생기로서 기본적인 목적은

항균/탈취/바이러스 제거 등 실내공기 정화입니다.


저희가 사용하는 방식은 아래와 같습니다.



1. 출력 전압 : ± 2.5kV ~ 4.5kV (DC, AC pulse 두가지 타입)

2. 사용 전극 : 침상 전극 (+), (-) 각 1개
- 두개의 전극간 이격 거리 : 30mm (최적의 전극간 이격거리를 현재 찾고 있음)
- 침상 전극의 형태는 얇은 철판을 5mm X 10mm 크기로 끝을 뾰족하게 만든 전극형태를 사용

3. 구동조건 : 상압,상온

4. 외관 : 침상 전극에 다치지 않도록 커버가 있으나, 공기의 유입이 가능하도록 직경 5pi 수준의 구멍이
  각각의 전극 상단에 위치함


이에 문의드리고자 하는 내용은,

1) 최적의 저온 상압 플라즈마 방전의 조건
- (+)이온, (-)이온의 발생이 가장 많이되는 최적의 출력전압조건(DC, AC or pulse / Voltage level)
- 침상전극의 형태
- 침상전극간 이격 거리

2) 저온 상압 플라즈마 방전에 대한 논문등의 자료
- 추천하시는 논문/서적/사이트/연구실/전문기관/전문가 등


적다보니 너무 광범위한 내용이 되어버려서 죄송합니다.

아는 것은 적은데 알고 싶은것이 너무 많은 탓이라 이해해주시면 감사하겠습니다.

바쁘시겠지만 검토부탁드리며, 회신 기다리고 있겠습니다.

감사합니다.
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76731
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20201
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68701
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92280
246 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 24337
245 Sputtering 중 VDC가 갑자기 변화하는 이유는 무엇인가요? 15885
244 Ar fraction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [1] 15803
243 remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다. [1] 22122
242 cross section 질문 [1] 19712
241 [Sputter Forward,Reflect Power] [1] 29263
240 RF Power에 따라 전자온도가 증가하는 경우에 대하여 궁금합니다. [1] 17700
239 ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] 21192
238 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24747
237 [질문] Plasma density 측정 방법 [1] 22696
236 [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] 19836
» 상압 플라즈마 방전에 관한 문의 [1] 20311
234 RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다. 31666
233 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 24310
232 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23332
231 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22943
230 대기압 플라즈마 40706

Boards


XE Login