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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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322 |
ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [국부 전기장 형성 및 reflect power]
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321 |
poly식각을 위한 조언 부탁드립니다.
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SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [반응성 기체 생성]
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319 |
코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [Reaction rate 및 reaction rate coefficient]
[1] | 6295 |
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318 |
RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [연속공정]
[4] | 9017 |
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317 |
모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의
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316 |
플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [최적 정합 조건 및 정합 시간]
[2] | 2625 |
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315 |
HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [Sputtering 및 particle issue]
[1] | 4283 |
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Ar plasma power/time [Self bias와 sputtering 효과]
[1] | 1516 |
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313 |
RPSC 관련 질문입니다. [플라즈마 발생과 쉬스 형성, 벽면 및 시료 demage]
[2] | 4242 |
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312 |
안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다. [공정 용법]
[1] | 17940 |
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311 |
플라즈마 내에서의 현상 [Neo-classical transport theory]
[1] | 1447 |
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310 |
RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [High Power RFG]
[2] | 7541 |
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309 |
플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [Breakdown voltage 및 이온화 에너지]
[1] | 2062 |
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308 |
N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [쉬스 전위 및 플라즈마 세정]
[1] | 11864 |
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307 |
RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [플라즈마 유전상수]
[1] | 4450 |
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306 |
PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [글로우 방전 및 아크 방전]
[1] | 888 |
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305 |
3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [Wave guide 및 matcher position 변화]
[1] | 1993 |
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304 |
Plasma 에칭 후 정전기 처리 [표면 전위 생성 및 방전]
[3] | 3145 |
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303 |
Dry Etching Uniformity 개선 방법 [장치 구조에 따른 공간 분포]
[2] | 4484 |
