Remote Plasma PECVD 매칭시 Reflect Power 증가

2008.08.12 15:39

김 선 미 조회 수:24992 추천:421

안녕하세요. 저는 연구실에서 마이크로웨이브 플라즈마 장치를 갖고 실험하고 있는 학생입니다.
플라즈마가 기판으로 도달되지 않아 플라즈마를 기판으로 내리기 위해  tunner를 조절하여 어느정도
내렸습니다. 그런데 forward power가 증가함에 따라 Reflect power도  상당히 큰 값으로 증가했습니다. 매칭이 잘못된거 같은데 아무리 tunner를 크게 또는 작게 해도  소용이 없었습니다.
혹시 다른 매칭방법은 없나요? 재료공학과 학생이라 플라즈마에 대한 지식이 많이 부족합니다.
알기쉽게 설명해주시면 감사하겠습니다.^^

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 76938
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20310
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57229
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68780
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92765
200 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 899
199 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 897
198 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 883
197 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 878
196 문의 드립니다. [1] 875
195 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 857
194 RF MATCHING 관련 교재 추천 부탁드립니다 [1] 857
193 Self bias 내용 질문입니다. [1] 854
192 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 854
191 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 852
190 PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [1] 846
189 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 844
188 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 844
187 RF 파워서플라이 매칭 문제 835
186 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [1] 833
185 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] 829
184 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 819
183 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 816
182 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 815
181 라디컬의 재결합 방지 [1] 811
쓰기
태그

Boards

XE Login