Plasma in general self bias

2023.03.13 16:58

브로 조회 수:546

self bias에 대한 개념을 교수님 말씀 읽고 숙지하였습니다 .감사합니다. 

그렇다면 교수님, self bias의 정의를 두 전극에 RF바이어스를 가했을 시,면적의 차이 등으로 인해 두 전극에 나타나는 전위차로 설명하는 것은 잘못된 설명인가요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 76942
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20312
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57231
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68782
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92768
720 플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거 [1] 421
719 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 238
718 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 677
717 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 844
716 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1460
715 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 288
714 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 452
713 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 366
712 corona model에 대한 질문입니다. [1] 172
711 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 217
710 plasma 공정 중 색변화 [1] 650
709 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [1] 450
708 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 412
707 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 627
706 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 324
705 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1062
704 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 610
» self bias [1] 546
702 Self bias 내용 질문입니다. [1] 854
701 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 734

Boards


XE Login