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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69253
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33 ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias] [1] 80
32 Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [식각 플라즈마의 가장자리 균일도 제어] [1] 83
31 micro arc에 대해 질문드립니다. [DC glow 방전과 breakdown 전기장] [1] 91
30 ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해] [1] 226
29 skin depth에 대한 이해 [Stochastic heating 이해] [1] 269
28 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고] [1] file 270
27 ICP에서의 Self bias 효과 [DC offset voltage와 floating potential] [1] 346
26 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 750
25 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 886
24 공정플라즈마 [1] 1199
23 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1223
22 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1477
21 ICP lower power 와 RF bias [1] 1570
20 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1592
19 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1694
18 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1712
17 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1715
16 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] 1934
15 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 2058
14 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2416

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