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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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737 |
구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다.
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736 |
플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요?
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735 |
center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2
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734 |
remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다.
[1] | 235 |
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733 |
반사파와 유,무효전력 관련 질문
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732 |
플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문
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731 |
안녕하세요, RPS나 DEPOSITION간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다.
[1] | 251 |
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730 |
plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다
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729 |
E-field plasma simulation correlating with film growth profile
[1] | 257 |
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728 |
ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다.
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727 |
플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거
[1] | 258 |
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726 |
Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다.
[1] | 258 |
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725 |
Sheath와 Plasma Bulk에 걸리는 전압 관련 문의
[1] | 261 |
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724 |
chamber에 인가 되는 forward power 관련 문의
[1] | 271 |
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723 |
CURRENT PATH로 인한 아킹
[1] | 272 |
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722 |
텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량
[1] | 278 |
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721 |
애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다.
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720 |
RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다.
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안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다.
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공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다.
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