Plasma Source 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할.
2023.06.26 10:34
안녕하세요. 현재 ETCH 공정엔지니어를 직업으로 하고 있습니다.
다름이 아니라 ETCH 공정에 많은 Route 중 Metal Etch 공정에 관해 질문 드립니다.
METAL을 ETCH 할 경우 주 GAS로는 BCL3 + CL2 를 이용하고 추가적으로 N2, CHF3, CH4의 부수적인 GAS를 사용 합니다.
이러한 GAS 중 CH4 GAS의 용도 및 역할에 대해서 상세히 알고 싶습니다..
도움 부탁드립니다. 감사합니다.
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관련 식각 및 표면 반응에 대해서는 성균관대학교 염근영교수님과 전북대학교 임연호 교수님이 전문이십니다. 보다 좋은 정보를 얻으실 수 있을 것으로 기대합니다. 아울러 염근영교수님의 역저 "플라즈마 식가기술 - 미래컴"를 참고 도서로 추천합니다. 감사합니다.