안녕하세요. 반도체 공정 엔지니어입니다.

 

반도체 불량에 대해 공부하던 중 궁금한 사항이 생겨서 질문 드립니다.

 

진공 챔버에서 Plasma on시 particle이 웨이퍼와 샤워헤드 사이 공중에 일정 gap을 가지고 나선 형태로 운동하며 공중에 떠있으며 plasma off시 자유낙하로 wafer 위에 떨어지는 것으로 알고 있습니다.

 

이때 Particle의 질량과 크기가 작고(마이크로 단위), 저진공(5Torr), 공정 gap이 작으면(수십 mm 수준) 단순하게 v=루트(2gh)이기에 충돌 시 속도는 1m/s 미만으로 빠른 속도가 아니라고 생각했습니다. 하지만 어떤 답변을 보면 질량이 작으면 운동량 보존의 법칙에 의해 충돌후 속도가 빨라지고, 관성의 영향을 적게 받아 wafer에 충돌할 시 속도가 수백~ 수천 m/s에 이를 수 있다고 보았습니다.

 

일반적인 etch 장비에서 공정 후 plasma off가 일어나고 wafer trasnfer시 제가 말씀드린 설명과 같은 상황이 발생한다면 particle이 wafer 표면과 충돌할때의 충돌 속도가 어떻게 될 지 궁금합니다.

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [298] 77503
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20588
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57520
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69033
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93163
19 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 332
18 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [1] 313
17 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] 308
16 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 235
15 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 234
14 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [2] 210
13 Microwave & RF Plasma [1] 195
12 corona model에 대한 질문입니다. [1] 182
11 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] 178
10 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 177
9 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 176
8 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 174
» 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] 160
6 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 155
5 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 149
4 PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. 106
3 플라즈마 사이즈 측정 방법 [1] 95
2 Druyvesteyn Distribution 71
1 C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 47

Boards


XE Login