안녕하세요. 반도체 장비업계에 근무하는 권보경입니다.

 

ICP 타입 O2 플라즈마에서 E/R drop의 이슈가 있었으나

PR wafer로 seasoning 후 회복되면서 일전과 비슷한 수준으로 saturation 되었습니다.

 

이 원리는 무엇이고 bare wafer seasoning은 효과가 있는지 알고싶습니다.

답변 부탁드립니다. 감사합니다.

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