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공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [253] 76392
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19972
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57059
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68530
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91232
53 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 368
52 Sheath와 Plasma Bulk에 걸리는 전압 관련 문의 [1] 366
51 Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] 365
50 CURRENT PATH로 인한 아킹 [1] file 361
49 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 360
48 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [1] 359
47 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 356
46 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [1] 354
45 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 337
44 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 334
43 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [2] 332
42 안녕하세요, RPS나 DEPOSITION간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [1] 332
41 플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거 [1] 332
40 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 330
39 chamber에 인가 되는 forward power 관련 문의 [1] 318
38 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [2] 312
37 plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다 [1] 310
36 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 309
35 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 295
34 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] 291

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