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공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24230
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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 72862
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 104563
93 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [ICP와 H field] [1] 638
92 플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거 [공정 조절과 CF4 계열 플라즈마] [1] 633
91 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [Materials processing] [1] 621
90 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... 613
89 Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [RF generator] [2] file 611
88 RIE Gas 질문 하나 드려도 될까요? [Sheath instability] [1] 611
87 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [플라즈마 생성과 가열] [2] 611
86 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고] [1] file 605
85 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메커니즘에 대해 질문하고 싶습니다. [플라즈마-화학-표면 반응 모델] [1] 605
84 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산] [1] 598
83 ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias] [1] 595
82 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [Sheath uniformity 이해] [1] 595
81 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [상압 플라즈마 임피던스, matching] [1] 595
80 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [Plasma Cleaning] [1] 590
79 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking] [1] 587
78 plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다. [DC 바이어스 전압과 쉬스 전기장] [1] 583
77 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 578
76 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [플라즈마 확산] [1] 573
75 Etch Plasma 관련 문의 건.. [RF 주파수와 플라즈마 주파수] [1] 571
74 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [HV probe 전압 측정] [2] file 567
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