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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68662
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787 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 100
786 skin depth에 대한 이해 [1] 68
785 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 45
784 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 54
783 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 80
782 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 77
781 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 97
780 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 48
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778 Microwave & RF Plasma [1] 95
777 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [1] 159
776 ICP에서 전자의 가속 [1] 123
775 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 48
774 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [1] 185
773 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 57
772 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 89
771 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 143
770 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] 117
769 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 66
768 Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] 217

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