Remote Plasma remote plasma 데미지 질문

2020.04.18 19:32

룰루랄라 조회 수:14486

안녕하세요 


반도체 공부하고 있는 학생입니다


반도체 관련 논문을 읽다 모르는 것이 있어 질문드립니다

remote plasma  경우 소스와 타겟 물질의 거리가 멀어 direct plasma 보다 플라즈마 데미지가 낮다고 하는데,

제가 알기로는 거리가 멀면 mean free path가 길어지고 플라즈마가 가속되어 에너지가 더 큰 것으로 알고 있습니다

그럼 충돌에너지가 커서 데미지가 더 커지는거 아닌가요..?


자세한 답변 부탁드립니다 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] 76881
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20276
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68754
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92707
102 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2400
» remote plasma 데미지 질문 [1] 14486
100 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1931
99 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1329
98 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 1173
97 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 2264
96 Plasma Dechuck Process가 궁금합니다. 17690
95 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1075
94 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 810
93 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 19786
92 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1627
91 Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [1] 11480
90 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2364
89 공정플라즈마 [1] 1157
88 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 517
87 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 2031
86 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1050
85 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1974
84 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 2880
83 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] 516

Boards


XE Login