안녕하세요, 현재 반도체 회사에서 근무 중입니다.

관리하는 설비 중 Decoupled Plasma를 사용하는 설비가 있습니다.

ICP Type의 설비이고 ESC Chuck은 사용하지않습니다.

pulsed rf power를 사용하는 설비인데, 여기서 decoupled plasma의 개념에 대해 궁금해서 질문남깁니다.

 

질문) Decoupled Plasma는 ion density와 ion energy를 분리한다는 의미인데 rf power의 상승에 따라 ion density는 상승하지만 ion energy는 낮은 상태를 유지하는 Mechanism이 궁금합니다.

 

항상 많이 배우고 있습니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [235] 75768
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19453
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56672
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68028
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 90321
597 매칭시 Shunt와 Series 값 [1] 1577
596 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 2841
595 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 214
594 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 2170
593 low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] 1255
592 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2094
591 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 2916
590 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [1] 783
589 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 1816
588 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 3115
587 플라즈마 챔버 [2] 1084
» Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] 977
585 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 3238
584 플라즈마 용어 질문드립니다 [1] 714
583 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1604
582 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1102
581 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 763
580 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 1006
579 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 375

Boards


XE Login