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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Bias 관련 질문 드립니다. [Ion plasma frequency]
[1] | 3637 |
642 |
Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [자유행정거리, Child law sheath]
[1] | 5025 |
641 |
Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [Polymer coating 식각]
[1] | 2442 |
640 |
식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [O2 plasma, ion sputtering]
[1] | 1284 |
639 |
임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [플라즈마 전류량]
[1] | 1390 |
638 |
Plasma 식각 test 관련 문의 [플라즈마 데이터 처리]
[1] | 4066 |
637 |
RF 전압과 압력의 영향? [DC glow 방전, Paschen's Law]
[1] | 1874 |
636 |
Plasma Cleaning 관련 문의 [Remote plasma source]
[1] | 1524 |
635 |
Uniformity 관련하여 문의드립니다. [베르누이 정리]
[1] | 1306 |
634 |
standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [Standing wave 운전 조건, 안테나 설계]
[1] | 1895 |
633 |
ICP 대기압 플라즈마 분석 [Collisional plasma, LTE 모델]
[1] | 795 |
632 |
RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [Standing wave effect]
[1] | 2552 |
631 |
IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [접촉 저항]
[2] | 1694 |
630 |
안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [상압 플라즈마 임피던스, matching]
[1] | 487 |
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텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [표면 화학 반응]
[1] | 1608 |
628 |
ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [ESC 영역 온도 조절]
[1] | 2407 |
627 |
ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [플라즈마 생성 기전, RIE 모드]
[1] | 8974 |
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CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [Breakdown 전기장, 아크 방전]
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ESC Dechuck과 관련하여 궁금한점이 있어 문의를 드립니다.
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624 |
CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [챔버 벽면 성질 및 가스 손실]
[1] | 1485 |