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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[220]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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548 |
Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계.
[2] | 906 |
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547 |
플라즈마 PIC 질문드립니다.
[1] | 10314 |
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546 |
[RIE] reactive, non-reactive ion의 역할
[1] | 1938 |
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545 |
O2 Asher o-ring 문의드립니다.
[1] | 775 |
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544 |
진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해
[1] | 3212 |
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543 |
자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다.
[1] | 425 |
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542 |
Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate
[1] | 1970 |
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541 |
플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서)
[1] | 1370 |
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540 |
CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다.
[3] | 3151 |
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539 |
플라즈마 살균 방식
[2] | 11272 |
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538 |
Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다.
[1] | 1212 |
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537 |
RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY
[1] | 1940 |
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536 |
H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련
[1] | 387 |
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535 |
Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다.
[1] | 966 |
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534 |
Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다.
[2] | 2626 |
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533 |
O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다.
[1] | 6298 |
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532 |
Plasma etch관련 질문이 드립니다.
[1] | 1120 |
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531 |
RPS를 이용한 SIO2 에칭
[1] | 2157 |
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530 |
쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문
[1] | 1692 |
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질문있습니다 교수님
[1] | 20111 |
