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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20076 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57115 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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523 |
안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다.
[1] | 6381 |
522 |
산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다.
[1] | 1143 |
521 |
플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다.
[2] | 1232 |
520 |
Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문
[3] | 3858 |
519 |
ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다.
[1] | 2176 |
518 |
Plasma Dechuck Process가 궁금합니다.
| 17633 |
517 |
HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의
[1] | 1043 |
516 |
Vpp, Vdc 측정관련 문의
[1] | 3637 |
515 |
간단한 질문 몇개드립니다.
[1] | 567 |
514 |
matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다.
[1] | 10223 |
513 |
Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생
[1] | 790 |
512 |
Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다.
[1] | 734 |
511 |
에쳐장비HF/LF 그라운드 관련
[1] | 19768 |
510 |
매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다.
[1] | 835 |
509 |
ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다.
[2] | 3623 |
508 |
진학으로 고민이 있습니다.
[2] | 1025 |
507 |
플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다.
[2] | 1211 |
506 |
Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다.
[1] | 2933 |
505 |
전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련
[1] | 536 |
504 |
ICP reflecot power 관련 질문드립니다.
[1] | 1576 |