CCP 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련

2020.01.02 18:46

베컴 조회 수:19826

안녕하십니까?


이전에 에쳐장비 관련 장비메이져 회사에서 근무한 경험이 있습니다.


그당시, 에쳐장비에서 HF/LF가 RF가 인가가 되는데,

그라운드 링이라는 하드웨어가 상부전극 주위 즉 Deposhield윗 공간에 존재를 하였습니다.


에쳐장비에서 RF관련 그라운드를 어떻게 잡는지가 궁금합니다.

(그라운드를 잡지않으면, 아킹이나 노이즈 등의 위험이 있다고 생각합니다.)


확인 및 답변 부탁드립니다.

새해 복 많이 받으시고, 행복한 한해 되십시오.

감사합니다.





번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [303] 78037
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20848
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57737
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69253
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93633
559 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 16710
558 알고싶습니다 [1] 1520
557 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2416
556 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 1046
555 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 800
554 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2907
553 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1473
552 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2532
551 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 739
550 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1646
549 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [3] 4771
548 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1181
547 플라즈마 PIC 질문드립니다. [1] 10420
546 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2651
545 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 943
544 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3973
543 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 535
542 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2404
541 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 2043
540 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3962

Boards


XE Login