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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68900
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526 remote plasma 데미지 질문 [1] 14504
525 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1974
524 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1366
523 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 6824
522 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 1187
521 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 1253
520 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 4015
519 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 2291
518 Plasma Dechuck Process가 궁금합니다. 17724
517 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1089
516 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3746
515 간단한 질문 몇개드립니다. [1] 596
514 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 10571
513 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 817
512 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 783
511 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 19799
510 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 861
509 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3701
508 진학으로 고민이 있습니다. [2] 1050
507 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 1271

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