안녕하세요.

 

큐에스아이라는 회사의 coating field를 담당하는 우병화 사원이라고 합니다.

 

현재 자사 ECR sputter에서 석영 parts 를 세정하여 재사용하고 있습니다.

 

그런데 세정 후에 장착하면 원하는 target(al2o3)의 반사율과 굴절율의 특성 이상이 보이는 현상이 있습니다.

 

세정 잘못으로 인한 반사울 굴절율 값이 상이해는지 경우가 있는지 문의 드립니다.

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 76964
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20323
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57243
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68791
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92784
261 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1197
260 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1197
259 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 1194
258 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 1185
257 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1178
256 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 1177
255 대학원 진학 질문 있습니다. [2] 1174
254 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] 1168
253 공정플라즈마 [1] 1163
252 전자 온도 구하기 [1] file 1154
251 Group Delay 문의드립니다. [1] 1152
250 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 1149
249 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 1146
248 자기 거울에 관하여 1146
247 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1146
246 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] 1145
245 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1143
244 wafer bias [1] 1142
243 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1136
242 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 1132

Boards


XE Login