Others Bias 관련 질문 드립니다. [Ion plasma frequency]

2022.01.11 14:32

박준석 조회 수:4091

안녕하세요 교수님. 반도체 공정팀에서 근무하는 엔지니어입니다.

 

RIE 장비 Process 담당하게 되어 공부중인데

Recipe Tuning 중 Bias Select 모드에서, 

Bias 를 W 와 V 중 선택하게 되었는데 둘의 차이점이 궁금합니다.

 

또한 self bias와 관련이 있는지 답변해주시면 감사하겠습니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 103062
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24696
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61469
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73496
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105885
241 플라즈마 관련 교육 [플라즈마 교육자료] [1] 1941
240 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [플라즈마 이온주입 연구실] [1] 715
239 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [RF Power와 reflection] [1] 1817
238 플라즈마 진단 공부중 질문 [Balance equation] [1] 1010
237 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [Cleaning 후 재활용] [1] 782
236 Co-relation between RF Forward Power and Vpp [RF ground] [1] 873
235 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [Collisional sheath 정의] [1] 1625
» Bias 관련 질문 드립니다. [Ion plasma frequency] [1] 4091
233 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [자유행정거리, Child law sheath] [1] 5459
232 RF 전압과 압력의 영향? [DC glow 방전, Paschen's Law] [1] 2276
231 Plasma Cleaning 관련 문의 [Remote plasma source] [1] 1876
230 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [Standing wave 운전 조건, 안테나 설계] [1] 2390
229 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [상압 플라즈마 임피던스, matching] [1] 610
228 ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [플라즈마 생성 기전, RIE 모드] [1] 9433
227 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [챔버 벽면 성질 및 가스 손실] [1] 1766
226 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [Light flower bulb] [1] 1292
225 데포 중 RF VDC DROP 현상 [부유 전극의 self bias 형성] [1] 1847
224 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [플라즈마 표면 반응] [1] 1081
223 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [Plasma information variable model] [1] 2628
222 LF Power에의한 Ion Bombardment [플라즈마 장비 물리] [2] 2806
쓰기
태그

Boards

XE Login