플라즈마 공부를 막 시작한 사회 초년생입니다
high votage를 가하면 충돌 단면적이 작아지고 mean free path가 커지는 이유가
궁금합니다.
이온화가 일어날 최대 확률(충돌 단면적)이 100ev에서 발생하는데
그 이상에선 감소하는데 그 이유를 알고싶습니다
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] | 76854 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20262 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57193 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68747 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92610 |
197 | TMP에 대해 다시 질문 드립니다. | 18011 |
196 | 터보분자펌프에 대해서 질문 좀 하고 싶어요! | 19357 |
195 | [re] 터보분자펌프에 대해서 질문 좀 하고 싶어요! | 19553 |
194 | Dry Etcher 에 대한 교재 [1] | 22550 |
193 | 플라즈마 측정기 [1] | 21334 |
192 | Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] | 22248 |
191 | Arcing [1] | 28659 |
190 | RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] | 24775 |
189 | 전자온도에 대하여 궁금한 사항이 있습니다. [1] | 18754 |
188 | 궁금해서요 | 16316 |
187 | PM을 한번 하시죠 | 19732 |
186 | CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [1] | 20391 |
185 | Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] | 22776 |
184 | scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [2] | 19220 |
183 | Full Face Erosion 관련 질문 [2] | 19461 |
182 | 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] | 26482 |
181 | 상압 플라즈마 관련 문의입니다. [1] | 21515 |
180 | RF에 대하여... | 32032 |
179 | Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 | 24182 |
178 | PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] | 24987 |