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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69036
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93171
774 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 203
773 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 208
772 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [2] 210
771 ICP에서 전자의 가속 [1] 212
770 AP plasma 공정 관련 문의 [1] 224
769 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 226
768 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 234
767 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 235
766 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 245
765 skin depth에 대한 이해 [1] 255
764 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [1] 256
763 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 258
762 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 260
761 Cu migration 방지를 위한 스터디 [1] 269
760 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 274
759 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] 280
758 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] 306
757 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] 308
756 Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] 311
755 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [1] 313

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