공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[234]
| 75763 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 19449 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 56670 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 68022 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 90307 |
174 |
gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다
[1] | 79 |
173 |
화장품 원료의 플라즈마 처리 문의
[1] | 130 |
172 |
GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문
[1] | 131 |
171 |
메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘
[1] | 164 |
170 |
PECVD Uniformity
[1] | 166 |
169 |
Compressive한 Wafer에 대한 질문
[1] | 180 |
168 |
RIE Gas 질문 하나 드려도될까요?
[1] | 180 |
167 |
RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요?
[1] | 194 |
166 |
center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2
| 234 |
165 |
remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다.
[1] | 237 |
164 |
Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다.
[1] | 261 |
163 |
텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량
[1] | 278 |
162 |
애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다.
[1] | 281 |
161 |
RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다.
[1] | 284 |
160 |
PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다.
[1] | 307 |
159 |
AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제
| 356 |
158 |
타겟 임피던스 값과 균일도 문제
[1] | 375 |
157 |
center to edge 문제를 극복하기 위한 방법
[1] | 397 |
156 |
PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요
[1] | 404 |
155 |
magnetic substrate와 플라즈마 거동
[3] | 437 |