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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68022
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174 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] 79
173 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 130
172 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 131
171 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 164
170 PECVD Uniformity [1] 166
169 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 180
168 RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 180
167 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 194
166 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 234
165 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 237
164 Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] 261
163 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 278
162 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [1] 281
161 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 284
160 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 307
159 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 356
158 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 375
157 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 397
156 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] 404
155 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 437

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