Matcher RF Power reflect 관련 문의 드립니다.
2016.09.23 01:10
안녕하세요. 반도체 회사에서 근무하고있는 직장인입니다.
etch 장비에서 초기 reflect power 안정화를 위해 shunt / series 값을 tuning 하여 어느정도 개선은 하였는데
전환되는 step 에서는 reflect power 를 빠르게 안정시킬 수 있는 방법이 궁굼합니다.
댓글 4
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] | 76956 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20320 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57240 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68788 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92781 |
| 801 | HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 | 9 |
| 800 | PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. | 11 |
| 799 | C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 | 18 |
| 798 | Druyvesteyn Distribution | 24 |
| 797 | 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [1] | 28 |
| 796 | DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] | 36 |
| 795 | 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] | 37 |
| 794 | 플라즈마 식각 커스핑 식각량 | 39 |
| 793 | 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] | 66 |
| 792 | Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] | 73 |
| 791 | 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] | 74 |
| 790 | Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. | 74 |
| 789 | 플라즈마 설비에 대한 질문 | 81 |
| 788 | 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 | 83 |
| 787 | Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] | 86 |
| 786 | 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] | 94 |
| 785 | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 96 |
| 784 | 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] | 97 |
| 783 | RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] | 100 |
| 782 | 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] | 124 |