Water Discharge Plasma 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다.
2022.08.03 16:16
안녕하세요,
플라즈마를 방전시킨 방전수에 활성화된 다양한 산소 및 질소 활성종의 정량 분석을 하고자 합니다.
그 중, 과산화수소의 정량 분석을 위해 hydrogen peroxide assay kit 을 구매를 했는데, 분석 시 시료의 적정 ph가 7~8 이어야 한다고 합니다.
그런데 저의 시료인 방전수는 ph가 2.6 정도로 산성이라 완충용액을 이용해 ph를 높여야 하는 상황입니다.
질문은 두 가지 입니다.
1. kit 에 동봉되어 있는 buffer solution 의 ph는 7.4 인데, 이를 이용해 ph 를 높인다면 엄청난 양을 사용해야하는데, 그렇다면 좋은 방법이 아닌 것 같습니다. 혹시 추천하시는 방법이 있으신지 여쭤봅니다.
2. 플라즈마 방전을 시키게되면 시료에는 산소 및 질소 이온과 라디칼이 있는 풍부한 상태인데, 수산화기를 포함한 buffer 를 사용한다면 이들과 반응해 과산화수소의 농도에 영향을 미치지 않을까 염려됩니다. 영향이 없을지 여쭤봅니다.
혹여 답변을 해주시기 힘드시면 관련 분야를 연구하시는 전문가 분을 소개해주시면 정말 감사하겠습니다.
감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] | 76881 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20276 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57199 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68754 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92707 |
798 | 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] | 2 |
797 | C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 | 13 |
796 | Druyvesteyn Distribution | 18 |
795 | DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] | 27 |
794 | 플라즈마 식각 커스핑 식각량 | 32 |
793 | Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. | 52 |
792 | 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] | 64 |
791 | Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] | 69 |
790 | Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] | 71 |
789 | 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] | 73 |
788 | 플라즈마 설비에 대한 질문 | 73 |
787 | 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] | 75 |
786 | 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 | 79 |
785 | 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] | 86 |
784 | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 94 |
783 | RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] | 95 |
782 | 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] | 118 |
781 | RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] | 119 |
780 | Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] | 120 |
779 | 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] | 138 |