안녕하세요.

삼성전자 반도체 사업장에서 일하는 DIFF PROCESS ENG'R 입니다.

얼마 전에 사내 PLASMA 강의를 듣고 사이트를 알게 되었습니다.

M.N. (Matching Network) 에서 R.F 인가시 Backword bias 가 걸리는 이유가 알고 싶습니다.

SLEF BIAS 하고 연관이 있는 건지요?

SELF BIAS 가 걸린 것이 Backword bias 처럼 보이는 건지 실질적으로 Backword Bias 가 형성되는  건지 알고 싶습니다.

대학에서 재료공학을 전공해서 전자공학에 대해 무지합니다.

교수님의 답변 기다리겠습니다.

감기 조심하시고 건강하세요...

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102830
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24683
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61407
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73471
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105819
44 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [Matching과 L-type] [1] 48927
43 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) [Matching Q factor와 negative ion] 36421
42 matching box에 관한 질문 [ICP Source 설계] [1] 30057
41 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 [Matching과 particle] 28031
40 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23474
» MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [Impedance matching과 반사파 형성] [3] 22819
38 ICP 플라즈마 매칭 문의 [Matching과 breakdown] [2] 21501
37 플라즈마 matching [Heating mechanism, matching] 20513
36 scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [RF matching 및 반응 단면적] [2] 19476
35 Virtual Matching [Impedance matching] 16991
34 matcher에서 load, tune의 역할이 궁금합니다. [Matcher와 impedance] [1] 12576
33 ICP 구성에서 PLASMA IGNITON시 문의 [ICP와 플라즈마 발생] [1] 10465
32 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [연속공정] [4] 9617
31 ETCH 관련 RF MATCHING중 REF 현상에 대한 질문입니다. [플라즈마 응답 특성] [1] 7556
30 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [플라즈마 임피던스 및 내부 임피던스 변화] [2] 6799
29 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [회로인자 및 구동기구, 플라즈마 특성] [1] 6528
28 RF calibration에 대해 질문드립니다. 6174
27 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [RF 전력 전달] [1] 5782
26 Depostion 진행 중 matcher(shunt, series) 관계 질문 [Matcher와 VI sensor] [3] 4771
25 임피던스 매칭회로 [전기공학 회로 이론 및 impedance matching] [1] file 3346

Boards


XE Login