ESC [질문] 석영 parts로인한 특성 이상
2011.09.04 20:31
안녕하세요.
큐에스아이라는 회사의 coating field를 담당하는 우병화 사원이라고 합니다.
현재 자사 ECR sputter에서 석영 parts 를 세정하여 재사용하고 있습니다.
그런데 세정 후에 장착하면 원하는 target(al2o3)의 반사율과 굴절율의 특성 이상이 보이는 현상이 있습니다.
세정 잘못으로 인한 반사울 굴절율 값이 상이해는지 경우가 있는지 문의 드립니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [218] | 75411 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19148 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56477 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 67542 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 89320 |
744 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. | 143351 |
743 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134328 |
742 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 94463 |
741 | Plasma source type | 78752 |
740 | Silent Discharge | 64512 |
739 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 53991 |
738 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 47314 |
737 | 플라즈마내에서의 아킹 | 43562 |
736 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
![]() | 40896 |
735 | 대기압 플라즈마 | 40362 |
734 | RF frequency와 RF power 구분 | 38923 |
733 | Ground에 대하여 | 38753 |
732 | Self Bias | 36279 |
731 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 35403 |
730 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34783 |
729 | PEALD관련 질문 [1] | 32061 |