Others Microwave 장비 관련 질문
2013.08.20 16:19
안녕하세요 현재 반도체 관련 회사에 재직중인 직장인 입니다.
현재 저희 회사에서 Microwave 장비(Generator, RPS)에 관련 하여 시장 및 현 상황에 대한 조사를 하고 있습니다.
반도체 공정 (CVD,Etch,LCD) 쪽으로의 어느정도의 수요는 확인 되었지만 Microwave 를 사용한 Plasma 발생 하는 장비의 수가 (RF대비) 상대적으로 적은것으로 조사가 되었습니다.
제 짧은 지식으로는 공정의 Concept 가 중요하겠지만, Impedance matching 문제, 도파관 사용에 의한 설치문제, 그리고 2.45Ghz 라는 주파수의 Radical 적인 문제로 사용하는 수가 적은것으로 생각됩니다.
제 짧은 생각이 맞는지 궁금합니다. 그리고 반도체 공정 뿐만 아닌 다른 분야에서도 현재 사용되는 곳이 있는지 궁금합니다.
황당한 질문일수도 있겠지만 답변 부탁드립니다^^
감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] | 76751 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20217 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57170 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68707 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92314 |
786 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. | 144502 |
785 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134446 |
784 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 95659 |
783 | Plasma source type | 79659 |
782 | Silent Discharge | 64557 |
781 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 54903 |
780 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 47832 |
779 | 플라즈마내에서의 아킹 | 43698 |
778 | 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. | 41239 |
777 | 대기압 플라즈마 | 40706 |
776 | Ground에 대하여 | 39419 |
775 | RF frequency와 RF power 구분 | 39068 |
774 | Self Bias | 36384 |
773 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 35918 |
772 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34957 |
771 | PEALD관련 질문 [1] | 32617 |