|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[337]
| 111644 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 27911 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 65190 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 76999 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 111289 |
|
776 |
RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [장비의 접지, 절연 관리]
[1] | 25121 |
|
775 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
 | 25102 |
|
774 |
[질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [Sheath model과 bias]
[3] | 25019 |
|
773 |
ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [ICP의 skin depth와 공정 균일도]
[1] | 24991 |
|
772 |
Arcing [아크의 종류와 발생 원인]
| 24800 |
|
771 |
플라즈마가 불안정한대요.. [압력과 전력 조절]
| 24735 |
|
770 |
Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제
| 24534 |
|
769 |
self Bias voltage [Self bias와 mobility]
| 24517 |
|
768 |
플라즈마 쉬스 [Sheath와 self bias]
| 24373 |
|
767 |
N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [Cooling과 Etch rate]
[2] | 24346 |
|
766 |
plasma and sheath, 플라즈마 크기
| 24265 |
|
765 |
플라즈마에 관해 질문 있습니다!!
| 24239 |
|
764 |
광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요?
| 23686 |
|
763 |
remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다. [Remote plasma의 Radical]
[1] | 23655 |
|
762 |
HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생
| 23535 |
|
761 |
DC glow discharge
| 23513 |
|
760 |
CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점.
| 23471 |
|
759 |
고온플라즈마와 저온플라즈마
| 23465 |
|
758 |
입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) [ICP와 CCP의 heating]
| 23442 |
|
757 |
No. of antenna coil turns for ICP [안테나 turn 수와 플라즈마 발생 효율]
| 23424 |
