CCP CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응

2021.05.24 15:35

피했습니다 조회 수:973

안녕하십니까 교수님. 반도체 장비회사에서 공정개발 직무를 담당하고 있는 엔지니어 입니다.

 

다름이 아니라 플라즈마 식각기술 책을 읽는 와중에 궁금한 점이 생겨 이렇게 질문을 남깁니다.

 

책에서 접지된 전극에 기판을 놓을 경우 Radical에 의한 반응이 반응성 이온의 영향보다 크게 되고,

고주파 전극에 기판을 놓게 되면 반대로 되어 이방성이 커진다고 하는데 

 

집지된 전극에 기판을 놓을 경우 왜 Radical 반응이 주가 되는 건가요?

접지라는 것이 이 구조에서 어떻게 영향을 끼치는 것인지 궁금합니다.

 

항상 많이 배우고 있습니다.

감사합니다

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76736
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20206
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68702
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92280
608 전자 온도 구하기 [1] file 1131
607 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 319
606 CVD 공정에서의 self bias [1] 3102
605 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3324
604 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 1118
603 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1861
602 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1419
601 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 1081
» CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 973
599 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1751
598 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 2744
597 매칭시 Shunt와 Series 값 [1] 1849
596 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 3299
595 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 225
594 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 2343
593 low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] 1354
592 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2320
591 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 3204
590 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [1] 856
쓰기
태그

Boards

XE Login