Etch etch defect 관련 질문드립니다 [Plasma distribution]

2022.04.28 18:19

르후앤 조회 수:1253

1. etch 공정이 완료된 이후 가장자리에 다량의 defect가 발견되었는데 이때 원인을 분석하기 위한 방법이 무엇이 있을까요?

 

2. 또 1번의 defect를 줄이기 위한 방법이 무엇이 있을까요?

 

저 나름대로 공부를 해봤는데 다른분들 의견이 궁금해서 질문드립니다

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [312] 79197
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21245
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58052
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69608
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94393
663 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다.[CCP와 Vdc, Vpp] [1] file 6062
662 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [RF Power와 reflection] [1] 1417
661 플라즈마 진단 공부중 질문 [Balance equation] [1] 788
660 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [Self bias와 RIE] [1] 655
659 N2, N2O Gas 사용시 Plasma 차이점 [N2 Plasma] [1] 1656
658 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [Cleaning 후 재활용] [1] 560
» etch defect 관련 질문드립니다 [Plasma distribution] [1] 1253
656 Co-relation between RF Forward Power and Vpp [RF ground] [1] 657
655 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [Ground와 Clamp] [1] 1097
654 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [Plasma information과 monitoring] [1] file 659
653 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [Self bias] [1] 1180
652 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [Matcher와 Plasma Impedence] [1] 1746
651 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [CCP 방전 원리] [1] file 1005
650 doping type에 따른 ER 차이 [MD 시뮬레이션 연구] [1] 2247
649 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [국부 전기장 형성 및 edge 세정] [1] 938
648 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [세정 시간 및 식각 효율] [1] 4266
647 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [Collisional sheath 정의] [1] 1304
646 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [Atmostpheric pressure plasma jet] [1] 1030
645 plasma 형성 관계 [Paschen's law, 플라즈마 주파수] [1] 1701
644 RF matcher와 particle 관계 [DC glow 방전, 플라즈마 임피던스] [2] 3295
쓰기
태그

Boards

XE Login