Remote Plasma remote plasma 데미지 질문

2020.04.18 19:32

룰루랄라 조회 수:14465

안녕하세요 


반도체 공부하고 있는 학생입니다


반도체 관련 논문을 읽다 모르는 것이 있어 질문드립니다

remote plasma  경우 소스와 타겟 물질의 거리가 멀어 direct plasma 보다 플라즈마 데미지가 낮다고 하는데,

제가 알기로는 거리가 멀면 mean free path가 길어지고 플라즈마가 가속되어 에너지가 더 큰 것으로 알고 있습니다

그럼 충돌에너지가 커서 데미지가 더 커지는거 아닌가요..?


자세한 답변 부탁드립니다 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] 76763
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20221
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57173
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68712
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92337
530 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 1914
529 질문있습니다 교수님 [1] 22126
528 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1735
527 KM 모델의 해석에 관한 질문 [1] 449
» remote plasma 데미지 질문 [1] 14465
525 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1916
524 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1303
523 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 6594
522 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 1166
521 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 1238
520 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 3930
519 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 2238
518 Plasma Dechuck Process가 궁금합니다. 17673
517 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1060
516 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3699
515 간단한 질문 몇개드립니다. [1] 587
514 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 10363
513 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 800
512 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 761
511 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 19776

Boards


XE Login