안녕하세요. 반도체에 종사하는 엔지니어입니다.

플라즈마에 대한 기초지식이 없어 설비 Trace 하는데 어려움이 있어 도움 요청합니다.

질문

1.VPP가 어떤건지?

2.VDC가 어떤건지?

3.VPP 정상 Trend에서 High Hunting 발생한 경우 왜 그런지?

4.VPP 정상 Trend에서 Low Hunting 발생한 경우 왜 그런지?

5.VDC 정상 Trend에서 High Hunting 발생한 경우 왜 그런지?

6.VDC 정상 Trend에서 Low Hunting 발생한 경우 왜 그런지?

7.플라즈마는 압력,TEMP에 대해서 어떻게 변하는지?

위 7개 항목에 대해서 알고 싶습니다.

참고. 반도체 Batch 장비 , ALD막 생성에 쓰이는 장비입니다.

정말 감사합니다.

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265 플라즈마 챔버 [2] 1257
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263 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 1246
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261 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 1225
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259 RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] 1205
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