ESC [질문] 석영 parts로인한 특성 이상
2011.09.04 20:31
안녕하세요.
큐에스아이라는 회사의 coating field를 담당하는 우병화 사원이라고 합니다.
현재 자사 ECR sputter에서 석영 parts 를 세정하여 재사용하고 있습니다.
그런데 세정 후에 장착하면 원하는 target(al2o3)의 반사율과 굴절율의 특성 이상이 보이는 현상이 있습니다.
세정 잘못으로 인한 반사울 굴절율 값이 상이해는지 경우가 있는지 문의 드립니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [270] | 76745 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20215 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57169 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68706 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92304 |
246 | ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] | 24338 |
245 | Sputtering 중 VDC가 갑자기 변화하는 이유는 무엇인가요? | 15885 |
244 | Ar fraction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [1] | 15803 |
243 | remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다. [1] | 22122 |
242 | cross section 질문 [1] | 19713 |
241 | [Sputter Forward,Reflect Power] [1] | 29263 |
240 | RF Power에 따라 전자온도가 증가하는 경우에 대하여 궁금합니다. [1] | 17710 |
239 | ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] | 21192 |
238 | ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] | 24748 |
237 | [질문] Plasma density 측정 방법 [1] | 22699 |
» | [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] | 19836 |
235 | 상압 플라즈마 방전에 관한 문의 [1] | 20312 |
234 | RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다. | 31668 |
233 | [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] | 24314 |
232 | HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 | 23333 |
231 | 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. | 22943 |
230 | 대기압 플라즈마 | 40706 |