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공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20183
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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68698
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30 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 111
29 skin depth에 대한 이해 [1] 123
28 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 126
27 ICP에서 전자의 가속 [1] 136
26 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 714
25 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 833
24 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1061
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22 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1323
21 ICP lower power 와 RF bias [1] 1435
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17 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1669
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15 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1952
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13 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2313
12 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2315
11 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2475

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