안녕하세요.

Remote plasma source에 대해 질문 드립니다!

 

Cleaning을 위한 Remote plasma source에 사용되는

 

전원회로의 주파수가 주로 400kHz인 이유가 있을까요?

 

400kHz를 썼을 때 어떤 특성이 좋아지는건가요?

 

감사합니다!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77260
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20473
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57383
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68910
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92959
21 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [1] 58
20 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] 125
19 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 131
18 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 467
» Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] 761
16 RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] 769
15 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1059
14 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 1220
13 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 1242
12 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 1270
11 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 1996
10 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 2065
9 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2433
8 RPSC 관련 질문입니다. [2] 4095
7 Remote Plasma에서 Baffle 재질에 따른 Plasma 특성 차이 [1] 10404
6 remote plasma 데미지 질문 [1] 14504
5 In-flight plasma process 15512
4 surface wave plasma 에 대해서 [1] 18564
3 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 24430
2 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] 24997

Boards


XE Login