Langmuir Probe pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련..
2010.06.29 08:37
60 MHz pulse generator와 60 MHz matching box를 구입하여 pulse plasma 특성들 (EEDF, Vp, Te, etc..)을 Langmuir probe를 이용해 측정하려 합니다. 그런데 pulse plasma 측정 방법에 대해 아는 부분이 없습니다. 일반적인 cw plasma 측정과 달리 pulse plasma는 TTL signal이 필요하다고 하는데 TTL signal이 무엇인지 궁금합니다.
그리고 pulse 주기에 따라 이를 측정하기 위한 장치들이 필요하다면 무엇이 필요한지 알고 싶습니다.
time-resolved, time-dependent plasma의 차이도 궁금하구요...
저희 Langmuir probe는 Hiden 社이며 EPison controller를 이용하고 있습니다.
한번에 너무 많은 것을 물어봐서 죄송합니다만, 자세히 알고 싶습니다.
부탁드립니다.
(혹시 관련 manual 자료가 있으면 받을 수 있을까요?)
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] | 76876 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20274 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57199 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68752 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92702 |
797 | C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 | 11 |
796 | Druyvesteyn Distribution | 13 |
795 | DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] | 24 |
794 | 플라즈마 식각 커스핑 식각량 | 28 |
793 | Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. | 43 |
792 | Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] | 60 |
791 | 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] | 64 |
790 | 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] | 65 |
789 | 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] | 71 |
788 | Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] | 71 |
787 | 플라즈마 설비에 대한 질문 | 71 |
786 | 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 | 79 |
785 | 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] | 79 |
784 | RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] | 92 |
783 | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 94 |
782 | 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] | 117 |
781 | RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] | 118 |
780 | Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] | 120 |
779 | 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] | 138 |
778 | Microwave & RF Plasma [1] | 138 |