Etch 플라즈마 샘플 위치 헷갈림
2022.06.07 20:57
안녕하세요.
현재, 플라즈마 장비를 이용하여 표면구조 처리를 하고자 하는 대학원생 조원희입니다.
다름이 아니라, 플라즈마를 주로 전공하는 과 가 아니기 때문에, 현재 연구실에 있는 플라즈마 샘플 위치에 헷갈림이 좀 있습니다.
오래전 저희 연구실에서는 O2와 Ar을 이용하여, 표면을 친수성으로 만들거나 고분자에 Ar/O2를 혼합하여 etching을 하였었는데, 경험 하신분들이 다 졸업을 하시는 바람에, 여기에 도움을 청하게 됐습니다.
제가 궁금한 점은,
1. O2만을 이용하여 표면을 친수성으로 만들때의 표면 위치와
2. Ar을 이용하여 etching을 할때의 표면 위치가
두 경우에 다른지가 궁금합니다.
타겟으로 하는 표면을 각각의 경우에, 챔버 내부의 RF Power와 Matching box가 연결되어 있는 부분에 두어야 하는지, 그 반대에 두어야 하는지 혹시 도와주실 분이 계신가요..?
참고로 샘플은 PDMS (고분자) 입니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] | 76852 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20261 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57193 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68747 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92610 |
797 | C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 | 7 |
796 | Druyvesteyn Distribution | 9 |
795 | DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] | 17 |
794 | Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. | 18 |
793 | 플라즈마 식각 커스핑 식각량 | 20 |
792 | Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] | 41 |
791 | 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] | 53 |
790 | 플라즈마 설비에 대한 질문 | 61 |
789 | 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] | 61 |
788 | 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] | 63 |
787 | 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] | 68 |
786 | Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] | 69 |
785 | 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 | 76 |
784 | RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] | 84 |
783 | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 88 |
782 | 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] | 109 |
781 | RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] | 112 |
780 | Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] | 117 |
779 | Microwave & RF Plasma [1] | 132 |
778 | 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] | 133 |