Plasma 를 공부하는 중에  bulk plasma 가 아닌 chamber wall 에서의 반응들에 대해 공부하게 되었는데요.

3-body recombination 에 대해 문의드리고자 합니다.

형성된 plasma 가 소모되는 가장 큰 이유로 chamber wall 에서의 충돌이 있다고 알고 있습니다.

단순히 ion 과 electron 이 결합하여 neutral 이 되는 확률은 0 에 수렴하기 때문에

chamber wall 을 통한 3-body recombination 으로 neutral 이 된다고 했는데요.

이때 chamber wall 로의 charge transfer 도 3-body collision 에 의해서 진행되는것인가요?

 

이렇게 질문을 드리는 이유는

중성빔을 발생시킬때 plasma 를 reflecter 로 입사하여 reflecter 에 charge transfer 후 중성빔을 형성한다고 배웠습니다.

이때 ion 의 charge 가 trasfer 되는 원리가 3-body recombination process 에 의해서 된다고 들은 기억이 있는데

막상 이를 도식화 하려니까 정리 및 이해가 아직 잘 안됩니다.

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 102237
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24584
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61236
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73329
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105560
653 RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [반응기 내벽 변동 및 벽면 불화 정도 판단] [1] 1033
652 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [플라즈마 응용기술] [1] 1045
651 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [플라즈마 식각기술] [1] 1048
650 Hollow Cahthode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [장치 setting과 전극재료] [1] file 1051
649 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [Breakdown 이해] [1] 1053
648 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [충돌 거리 및 Deposition] [1] 1054
647 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다. [플라즈마 확산 시간 및 표면 반응 시간 유지] [2] 1055
646 remote plasma를 이용한 SiO2 ethching 질문드립니다. [식각률 self limit과 쉬스 에너지 변화] [1] 1063
645 플라즈마 충격파 질문 [플라즈마 생성에 의한 충격파 현상] [1] 1065
644 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [플라즈마 표면 반응] [1] 1066
643 RF Sputtering Target Issue [Sputtering] [2] file 1068
642 새집 증후군 없애는 플러스미- 플라즈마에 대해서 [광운대 플라즈마바이오연구센터] [1] 1073
641 Polymer Temp Etch [이온 입사 에너지] [1] 1073
640 플라즈마 용어 질문드립니다. [Self bias] [1] 1074
639 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [ECRiS] [2] 1082
638 경전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 1089
637 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [RF plasma와 circuit model] [1] 1099
636 라디컬의 재결합 방지 [해리 반응상수] [1] 1100
635 Plasma Generator 관련해서요. [Matcher 성능 개선] [1] 1123
634 문의 드립니다. [방전 개시 조건 및 Bohm current density] [1] 1134

Boards


XE Login