안녕하세요 교수님

반도체 후공정 회사를 다니고 있는 직장인입니다.

 

공정 진행 후 leakage test 결과 leakage current가 높게 나온 문제점이 발생하였습니다.

내부 엔지니어 문의 결과 O2 descum공정이 metal residue를 없애는데 도움을 준다는 답변을 받았습니다.

따라서 추가적으로 O2 descum을 진행했지만, leakage 문제는 개선되지 않았습니다.

metal residue를 없애기 위해 다른 가스(Ar, H2N2, CF4 등)를 이용한 플라즈마가 더 효과적인지 알고싶어 질문드립니다.

 

혹은, leakage를 개선할 수 있는 방법이 있다면 조언해주시면 감사드립니다.

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102828
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24683
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61407
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73471
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105819
653 플라즈마 밀도와 라디칼 [플라즈마 충돌 반응] [1] 1037
652 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [플라즈마 응용기술] [1] 1047
651 Hollow Cahthode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [장치 setting과 전극재료] [1] file 1054
650 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [Breakdown 이해] [1] 1057
649 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [충돌 거리 및 Deposition] [1] 1060
648 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다. [플라즈마 확산 시간 및 표면 반응 시간 유지] [2] 1064
647 Polymer Temp Etch [이온 입사 에너지] [1] 1076
646 remote plasma를 이용한 SiO2 ethching 질문드립니다. [식각률 self limit과 쉬스 에너지 변화] [1] 1076
645 새집 증후군 없애는 플러스미- 플라즈마에 대해서 [광운대 플라즈마바이오연구센터] [1] 1078
644 플라즈마 충격파 질문 [플라즈마 생성에 의한 충격파 현상] [1] 1080
643 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [플라즈마 표면 반응] [1] 1080
642 플라즈마 용어 질문드립니다. [Self bias] [1] 1081
641 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [플라즈마 식각기술] [1] 1081
640 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [ECRiS] [2] 1084
639 RF Sputtering Target Issue [Sputtering] [2] file 1086
638 경전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 1095
637 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [RF plasma와 circuit model] [1] 1100
636 라디컬의 재결합 방지 [해리 반응상수] [1] 1109
635 Plasma Generator 관련해서요. [Matcher 성능 개선] [1] 1127
634 문의 드립니다. [방전 개시 조건 및 Bohm current density] [1] 1137

Boards


XE Login