안녕하십니까 교수님. 반도체 장비회사에서 공정개발 직무를 담당하고 있는 엔지니어 입니다.

 

다름이 아니라 플라즈마 식각기술 책을 읽는 와중에 궁금한 점이 생겨 이렇게 질문을 남깁니다.

 

책에서 접지된 전극에 기판을 놓을 경우 Radical에 의한 반응이 반응성 이온의 영향보다 크게 되고,

고주파 전극에 기판을 놓게 되면 반대로 되어 이방성이 커진다고 하는데 

 

집지된 전극에 기판을 놓을 경우 왜 Radical 반응이 주가 되는 건가요?

접지라는 것이 이 구조에서 어떻게 영향을 끼치는 것인지 궁금합니다.

 

항상 많이 배우고 있습니다.

감사합니다

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 77004
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20344
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57267
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68811
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92810
621 라디컬의 재결합 방지 [1] 813
620 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 817
619 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 817
618 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 819
617 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 822
616 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] 829
615 RF 파워서플라이 매칭 문제 836
614 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [1] 837
613 PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [1] 846
612 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 849
611 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 854
610 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 854
609 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 855
608 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 857
607 RF MATCHING 관련 교재 추천 부탁드립니다 [1] 858
606 Self bias 내용 질문입니다. [1] 860
605 문의 드립니다. [1] 876
604 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 878
603 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 886
602 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 899

Boards


XE Login